平板等離子體技術(shù),無需維護(hù),提供可靠、穩(wěn)定的等離子體炬
PlasmaShear技術(shù)可實(shí)現(xiàn)無氬冷尾焰切割,無需維護(hù),有效消除基體干擾
業(yè)內(nèi)最低氬氣消耗量,僅需9L/M,為同類產(chǎn)品一半